memcache memcache.php by Harun Yayli

Journal is co vers technological, physical and circuit engineering problems in micro- and nano electronics. Special emphasis on new tre nds in lithography (optical, x-ray, elec tron, ion), etching, impurity implantati on, deposition and planarization in subm icron and nanometer scale.

Журн� �л посвящён технологи� �еским, физическим и с� �емотехническим аспек там микро- и наноэлект роники. Особое вниман� �е уделяется новым тен денциям в литографии ( оптической, рентгенов ской, электронной, ион ной), травлении, легир� �вании, осаждении и пл� �наризации на субмикр� �нном и нанометровом у ровнях. Значительное � �есто отводится пучко� �ым и плазменным техно логиям, в том числе мо� �екулярно-пучковой эп� �таксии и сухому травл ению, а также методам � �сследования и контро� �я поверхностей и мног ослойных структур. Об� �уждаются вопросы при� �орно-технологическог о моделирования и диа� �ностики технологичес ких процессов в реаль� �ом времени. Публикуют ся статьи о полупрово� �никовых приборах на б азе новых физических � �влений, таких как ква� �товые размерные эффе� �ты и сверхпроводимос� �ь. Данное направление исследований охватыв ает гетероструктуры, � �анотранзисторы и пол� �проводниковые реализ ации квантовых битов ( кубитов). Рассматрива� �тся проблемы анализа и синтеза электронных схем на биполярных и � �олевых транзисторах, в частности КМОП- и Би� �МОП-схем.